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吉安市吉州气体有限公司
超纯氨气
超纯氨是微电子氮化硅掩蔽膜的主要原材料，其反应为：750—850℃：SiH4+NH3---Si3N4+H2+N2，850—900℃：3SiCl4+4NH3---Si3N4+12HCl。虽然NH3在半导体制造用量不大，但在光电子领域、超纯氨是十分重要的原材料
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超纯氨是微电子氮化硅掩蔽膜的主要原材料，其反应为：750—850℃：SiH4+NH3---Si3N4+H2+N2，850—900℃：3SiCl4+4NH3---Si3N4+12HCl。虽然NH3在半导体制造用量不大，但在光电子领域、超纯氨是十分重要的原材料
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JI'AN JIZHOU GAS CO.,LTD.
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